오늘은 플라즈마에 대한 이야기가 아닌 경영학에서 사용되는 개념중의 하나인 매몰비용에 대해 알아보려고 합니다. 매몰비용(또는 비용 매몰, sunk cost)은 이미 발생한 비용으로, 현재나 미래의 의사결정과는 무관한 비용을 가리킵니다. 이러한 비용은 이미 지출되어 돌이킬 수 없는 비용으로, 어떤 결정을 내리든 상황이나 조건이 달라져도 변하지 않습니다. 그럼 이에 대한 보다 구체적인 사례를 알아보겠습니다. 1. 고객관리 소프트웨어 가정용으로 고객관리 소프트웨어를 구입한 경우를 생각해보겠습니다. 이 소프트웨어를 이미 구매한 후, 사용자는 이 소프트웨어가 별로 유용하지 않다고 느낄 수 있습니다. 그럼에도 불구하고, 사용자는 더 많은 시간과 에너지를 투자하여 이 소프트웨어를 사용하려고 할 수 있습니다. 이것은 매..

디스플레이 제조 분야에서 플라즈마 기술은 주로 플라즈마 디스플레이 (Plasma Display) 기술과 관련이 있습니다. 플라즈마 디스플레이는 대형 텔레비전 및 모니터 화면에서 사용되며, 높은 해상도, 밝기, 및 색상 품질을 제공하면서도 얇고 가벼운 디스플레이를 제조하는 데 사용됩니다. 다음은 디스플레이 제조 분야에서 플라즈마의 활용에 대한 자세한 내용입니다 1. 기본 원리 플라즈마 디스플레이는 기본적으로 플라즈마 기술을 활용하여 이미지를 생성합니다. 플라즈마 디스플레이 패널은 작은 세포로 구성되어 있고 각 세포는 가스로 채워져 있습니다. 각 세포는 세로와 가로로 교차되는 전극으로 구성되어 있는데 플라즈마 가스 내에서 방전이 발생하면서 빛이 방출됩니다. 2. 방전 과정 플라즈마 디스플레이는 주로 두 가지..

앞선 게시글들에서 플라즈마의 정의와 관련 연구들에 대해 알아보았는데요, 플라즈마는 다양한 분야에서 활용가능성이 높지만 플라즈마 상태를 유지하는 것은 매우 어려운 것으로 알려져 있습니다. 오늘은 플라즈마 상태를 유지하기 어려운 이유들에 대해 알아보려 합니다. 그 이유들은 아래와 같습니다. 1. 열적 불안정성 플라즈마는 매우 고온 상태에서 존재하며, 이 고온 상태를 유지하기 위해서는 상당한 에너지가 필요합니다. 열적 불안정성은 플라즈마가 그 안에 에너지를 공급받지 않으면 즉시 식어버리는 경향이 있어서 이 에너지를 지속적으로 제공해야 플라즈마를 유지할 수 있다는 어려움이 있습니다. 2. 중성자 데터리오 브리멘트 핵융합과 같은 플라즈마 기술을 사용하는 경우, 중성자가 플라즈마 내에 충돌하고 중성자 흡수로 인해 ..

핵융합 반응을 일으킬 때 플라즈마는 중요한 역할을 수행합니다. 핵융합은 높은 온도와 압력에서 가벼운 원자핵이 합체되어 무거운 핵을 생성하는 반응입니다. 플라즈마는 이러한 환경을 제공하고 반응을 지속시키는 데 사용됩니다. 다음은 플라즈마가 핵융합 반응에서 하는 주요 역할입니다 1. 가스 가열 핵융합 반응을 일으키려면 가스를 매우 높은 고온으로 가열해야 하는데, 플라즈마는 가스를 높은 온도로 가열하는 역할을 합니다. 플라즈마 내의 이온화된 가스 입자는 높은 온도와 에너지를 가지고 있으며, 이로써 핵융합 반응에 필요한 높은 온도를 제공합니다. 2. 이온화 플라즈마는 가스를 이온화시키는 역할을 합니다. 이온화는 가스 분자를 양성 이온과 자유 전자로 분리시키는 과정을 말합니다. 이러한 이온화된 가스는 반응에 참여..

오늘은 반도 체 공정 중 반도체 에칭 프로세스에서 플라즈마의 역할에 대해 알아보겠습니다. 에칭 프로세스에서 플라즈마의 역할은 매우 중요하며 다음과 같이 설명할 수 있습니다 1. 패턴 형성 반도체 에칭 프로세스는 반도체 웨이퍼(실리콘 원판)의 표면을 패턴화하거나 정의하는데 사용되는데 패턴화는 반도체 소자의 설계와 구조를 정확하게 따르는 중요한 단계입니다. 플라즈마는 웨이퍼 표면에 원하는 패턴을 형성하기 위해 사용되며, 플라즈마 에칭 프로세스는 플라즈마가 웨이퍼 표면에 화학적 또는 물리적인 반응을 유도하여 원하는 패턴을 형성합니다. 2. 물질 제거 에칭은 반도체 웨이퍼 표면에서 불필요한 물질을 제거하는 데 사용됩니다. 플라즈마 에칭 프로세스에서 플라즈마는 웨이퍼 표면에 물질을 제거하기 위해 화학적 또는 물리..

이전의 컨텐츠에서는 플라즈마의 핵융합 분야에서의 적용에 대해 알아봤는데요, 오늘은 플라즈마를 활용한 반도체 제조기술에 대해 알아보려고 합니다. 플라즈마는 반도체 제조 공정에서 중요한 역할을 하는 기술 중 하나로, 반도체 제조의 다양한 단계에서 사용됩니다. 지금부터 플라즈마를 활용한 반도체 제조 기술에 대해 알아 보겠습니다. 1. 에칭(etching) 에칭은 반도체 웨이퍼(실리콘 원판)의 표면을 패턴화하거나 정의하는 프로세스입니다. 플라즈마 에칭은 웨이퍼 표면에 원하는 패턴을 만들거나 불필요한 물질을 제거하는 프로세스로, 에칭 과정에서 플라즈마는 반도체 웨이퍼 표면에 화학적 또는 물리적으로 작용하여 원하는 패턴을 형성합니다. 이러한 과정은 반도체 장치의 제조 과정 중에서 매우 중요한 단계입니다. 2. 청소..